[发明专利]光刻机用微透镜阵列的检测装置和检测方法有效
| 申请号： | 201310139490.9 | 申请日： | 2013-04-19 |
| 公开（公告）号： | CN103217872A | 公开（公告）日： | 2013-07-24 |
| 发明（设计）人： | 肖艳芬;朱菁;杨宝喜;胡小邦;张方;黄惠杰;李璟;陈明 | 申请（专利权）人： | 中国科学院上海光学精密机械研究所 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海新天专利代理有限公司 31213 | 代理人： | 张泽纯 |
| 地址： | 201800 上海*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 一种光刻机用微透镜阵列的检测装置和检测方法，检测装置的过程包括准分子激光器，沿该准分子激光器的输出光束方向依次是同轴的扩束镜、能量衰减片、光阑、聚光镜和图像传感器，所述的微透镜阵列置于二维电动平台上，所述的微透镜阵列的后焦面与所述的聚光镜的前焦面重合；所述的图像传感器位于所述的聚光镜的后焦面，所述的图像传感器的输出端与计算机的输入端相连。本发明可以精确测量光刻机照明系统中微透镜阵列的不均匀性和能量利用率，可以完整的获得全口径微透镜形成的远场光斑图像。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 机用微 透镜 阵列 检测 装置 方法 | ||
【主权项】：
一种光刻机用微透镜阵列检测装置，包括准分子激光器（1），沿该准分子激光器（1）的输出光束方向依次是同轴的扩束镜（2）、能量衰减片（3）、光阑（4）、聚光镜（6）和图像传感器（7），所述的微透镜阵列（5）置于二维电动平台（9）上，所述的微透镜阵列（5）的后焦面与所述的聚光镜（6）的前焦面重合；所述的图像传感器（7）位于所述的聚光镜（6）的后焦面，所述的图像传感器（7）的输出端与计算机（8）的输入端相连。
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