[发明专利]反应腔室及等离子体加工设备有效
| 申请号： | 201310116317.7 | 申请日： | 2013-04-03 |
| 公开（公告）号： | CN104099613B | 公开（公告）日： | 2017-02-08 |
| 发明（设计）人： | 聂淼 | 申请（专利权）人： | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 |
| 主分类号： | C23F4/00 | 分类号： | C23F4/00 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司11112 | 代理人： | 彭瑞欣,张天舒 |
| 地址： | 100176 北*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供的反应腔室及等离子体加工设备，包括热交换媒介源和介质窗，介质窗设置在反应腔室的顶部，并且在介质窗的上表面均匀分布有凹道，并且在介质窗的上表面上叠置有密封板，密封板与凹道形成封闭的通道，并且在密封板上设置有分别与通道的首尾两端连通的入口和出口，热交换媒介源与入口连接，用以经由入口向通道内输送热交换媒介，热交换媒介自出口排出通道，并在沿通道流动的过程中与介质窗进行热交换。本发明提供的反应腔室可以实现对介质窗进行均匀加热，从而提高了工艺的均匀性，进而提高等离子体加工设备的工艺质量。 | ||
| 搜索关键词： | 反应 等离子体 加工 设备 | ||
【主权项】：
一种反应腔室，其特征在于，包括热交换媒介源、介质窗、感应线圈和射频电源，所述介质窗设置在所述反应腔室的顶部，并且在所述介质窗的上表面均匀分布有凹道，并且在所述介质窗的上表面上叠置有密封板，所述密封板与所述凹道形成封闭的通道，并且在所述密封板上分别设置有与所述通道的首尾两端连通的入口和出口，所述热交换媒介源与所述入口连接，用以经由所述入口向所述通道内输送热交换媒介，并且流入所述通道内的所述热交换媒介自所述出口排出所述通道，并在沿所述通道流动的过程中与所述介质窗进行热交换；所述感应线圈设置在所述密封板的上方，且与所述射频电源电连接，用以激发所述反应腔室中的工艺气体生成等离子体；并且所述密封板采用抗磁材料制作。
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