[发明专利]化妆材料有效
| 申请号： | 201310116160.8 | 申请日： | 2013-04-03 |
| 公开（公告）号： | CN103356403B | 公开（公告）日： | 2017-07-28 |
| 发明（设计）人： | 龟井正直 | 申请（专利权）人： | 信越化学工业株式会社 |
| 主分类号： | A61K8/898 | 分类号： | A61K8/898;A61Q19/00;A61Q19/10;A61Q1/10;A61Q1/12;A61Q1/08;A61Q1/04;A61Q5/02;A61Q5/12;A61Q5/06;A61Q17/04 |
| 代理公司： | 隆天知识产权代理有限公司72003 | 代理人： | 张永康,向勇 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明的课题在于提供一种化妆持续性优异的化妆材料，可以改善涂匀性的恶劣和粘性等使用感，并改善对非极性油即硅酮油或轻质石蜡等、以及紫外线吸收剂、酯油、及天然动植物油等极性油的溶解性，关于包含极性油的化妆材料，也没有粘性，保存稳定性优异，且可以防止化妆附着于衣服等上（2次附着）。为了解决此课题，本发明提供一种化妆材料，其特征在于，调配有糖化合物，所述糖化合物是通过使糖类的羟基、由通式(1)所代表的含异氰酸酯基有机聚硅氧烷、及由通式(2)所代表的含异氰酸酯基有机化合物反应来获得， | ||
| 搜索关键词： | 化妆 材料 | ||
【主权项】：
一种化妆材料，其特征在于，调配有糖化合物，所述糖化合物是通过使分子量为500～5000000的糖类的羟基、由下述通式(1)所代表的含异氰酸酯基有机聚硅氧烷、及由下述通式(2)所代表的含异氰酸酯基有机化合物反应来获得，式(1)中，R1、R2、R3及R4分别为选自碳数1～8的烷基、碳数1～8的氟取代烷基、及碳数6～12的芳基的基团，n为1～10，a为0～3；O＝C＝N‑R5 (2)式(2)中，R5为选自碳数3～30的烷基、碳数6～30的芳基、碳数6～30的芳烷基、及由下述通式(3)所表示的有机基的基团；‑R6‑X‑R7 (3)式(3)中，R6为碳数2～20的2价烃基，R7为碳数1～30的烷基，X为由‑NHCONH‑或‑NHCOO‑所表示的基团。
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