[发明专利]曝光方法及曝光设备有效
| 申请号： | 201310094965.7 | 申请日： | 2013-03-22 |
| 公开（公告）号： | CN103207529A | 公开（公告）日： | 2013-07-17 |
| 发明（设计）人： | 黄常刚;吴洪江;王耸;万冀豫;李圭铉 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人： | 王莹 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明涉及显示技术领域，具体涉及一种曝光方法及实现该曝光方法的曝光设备。本发明所提供的曝光方法中，通过将多块涂覆有光刻胶的基板置于一块掩膜板的下方，采用平行曝光光线垂直照射掩膜板，平行曝光光线首先对最上方的基板上的光刻胶进行曝光，透过最上方的基板的平行曝光光线继续对其下方的基板上的光刻胶进行曝光，依次类推，直到完成所有基板上的光刻胶的曝光过程。由于可以同时对多块基板上的光刻胶进行曝光，因此有效的提高了曝光的效率；并且，由于使用的掩膜板数量大大减少，因此在很大程度上降低了曝光成本；同时，由于对同一曝光光线充分利用，因此，减少了能耗，进一步降低了曝光成本。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 方法 设备 | ||
【主权项】：
一种曝光方法，其特征在于，包括：将至少两块涂覆有光刻胶的透明基板置于一块掩膜板下方；所有所述基板与所述掩膜板平行；平行曝光光线垂直照射所述掩膜板，沿曝光光线传播方向对各个基板上的光刻胶进行曝光。
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