[发明专利]电化学抛光装置和方法有效
| 申请号： | 201310073033.4 | 申请日： | 2013-03-07 |
| 公开（公告）号： | CN104032366B | 公开（公告）日： | 2017-06-30 |
| 发明（设计）人： | 庄维伟;高永超;程好;杨淑平;蔡渊;贺昱旻 | 申请（专利权）人： | 苏州新材料研究所有限公司 |
| 主分类号： | C25F7/00 | 分类号： | C25F7/00;C25F3/16 |
| 代理公司： | 北京高沃律师事务所11569 | 代理人： | 王加贵 |
| 地址： | 215125 江苏省苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种电化学抛光装置，包括槽体；横向穿设于所述槽体的至少一电解槽，该电解槽于所述槽体的两端分别形成入口和出口，待抛光工件横向运动于所述电解槽内；位于所述电解槽两侧的电极，该电极形成的电场屏蔽于所述电解槽内；电解液供应管路，连通于所述电解槽，并导引电解液沿所述待抛光工件的表面流动。本发明还公开了一种电化学抛光方法。本发明的装置结构简单，可以解决基带表面出现的柱状条纹，本发明的抛光方法抛光效果好，且抛光处理速度快。 | ||
| 搜索关键词： | 电化学 抛光 装置 方法 | ||
【主权项】：
一种电化学抛光装置，其特征在于，包括：槽体；横向穿设于所述槽体的至少一电解槽，该电解槽于所述槽体的两端分别形成入口和出口，待抛光工件横向运动于所述电解槽内；位于所述电解槽两侧的电极，该电极形成的电场屏蔽于所述电解槽内；电解液供应管路，连通于所述电解槽，并导引电解液沿所述待抛光工件的表面流动；所述电解液供应管路导引电解液沿与所述待抛光工件相反的运动方向流动，所述电解液供应管路连通于所述电解槽的底部，且连通位置靠近所述出口设置；或者，所述电解液供应管路导引电解液纵向流动，所述电解液供应管路连通于所述电解槽的顶部，并导引电解液沿竖直方向流动于所述待抛光工件的表面，所述电解液供应管路包括第一管路和第二管路，所述第一管路和第二管路连通于所述电解槽的顶部且分别形成于所述电解槽的两侧；所述电解液温度为40‑80℃；走带速度0.5‑5米/分钟；电流密度2000–12000安培/平方米；电解槽只在槽体的两端有三个开口，待抛光工件的进入端一个开口，待抛光工件离开电解槽的端口两个开口，一个用于待抛光工件的运动，另一个则是在电解槽的底部，用于电解液进入。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于苏州新材料研究所有限公司，未经苏州新材料研究所有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201310073033.4/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：减少分数N锁相环中瞬时响应的系统和方法
- 下一篇：基坑微变形控制系统及方法
