[发明专利]一种类抛物面微透镜阵列的电场诱导流变成形方法有效

专利信息
申请号: 201310066465.2 申请日: 2013-03-01
公开(公告)号: CN103197362A 公开(公告)日: 2013-07-10
发明(设计)人: 丁玉成;邵金友;姜承宝;李祥明;田洪淼;胡鸿 申请(专利权)人: 西安交通大学
主分类号: G02B3/00 分类号: G02B3/00
代理公司: 西安智大知识产权代理事务所 61215 代理人: 贺建斌
地址: 710049 陕*** 国省代码: 陕西;61
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 一种类抛物面微透镜阵列的电场诱导流变成形方法,先用光刻刻蚀法进行上极板孔模具的制备及处理,再蒸镀制备透明导电ITO玻璃下极板,在上下两极板之间施加直流外电场后,把聚合物从上下极板间隙的开口处滴入,流入上下极板空隙间隙内的聚合物的液面高度和形状被电场调控,固化并脱模,得到类抛物面微凹透镜阵列,再对其复型,最终得到类抛物面微凸透镜阵列,本发明突破了常规微透镜阵列制备工艺只能制备球面透镜的限制,得到的微透镜阵列具有超光滑表面特性,优于材料去除或腐蚀法得到的透镜阵列,同时由于本发明不需要复杂的工艺控制,大大降低了加工成本,提高了加工效率,可广泛地应用在芯片实验室,平板显示器,光学系统检测及观察等多方面。
搜索关键词: 种类 抛物面 透镜 阵列 电场 诱导 流变 成形 方法
【主权项】:
一种类抛物面微透镜阵列的电场诱导流变成形方法,其特征在于,包括以下步骤:1)上极板模具的制备及处理:在晶圆表面利用光刻和刻蚀工艺加工出所需的圆孔阵列图形结构,在图形化了的晶圆表面热氧化一层厚度0.1um‑2um的SiO2介电层,然后再对其进行低表面能处理;2)下极板和聚合物的选择:制备透明导电ITO玻璃作为下极板,其制备方法如下:用PECVD技术,在石英玻璃上蒸镀一层50nm‑300nm的透明导电铟锡金属化合物,透明导电铟锡金属化合物作为电极的同时能够透过紫外光,利于对光固型聚合物的固化,聚合物选用紫外光固化或热固型聚合物,包括Ormo Stamp Hybrid polymer(micro resist technology GmbH)紫外固化型、PDMS或PMMA光固化型;3)外电场的施加及聚合物的填入方式:电源选用直流电源,调节范围0‑500V,其正极接图形化了的晶圆模具,负极接透明导电ITO玻璃,电场施加后,用针管把光固型聚合物滴在图形化了的晶圆与透明导电ITO玻璃之间空气间隙的开口处,在自然毛细力和电场的作用下聚合物流入图形化了的晶圆与ITO导电玻璃的空气间隙内,形成微凹透镜阵列;4)电场对液面的调控:聚合物在图形化了的晶圆与透明导电玻璃的间隙内横向流变结束后,由于图形化的上极板模具的作用,极板间的电场并不规则,电场对此时形成的凹液面进行作用,即在表面张力,电场力和压缩气体负向气压力的综合作用下形成所需的类抛物面 形状,电压越大,包裹住的气体越多,透镜深度也越大;5)聚合物的固化及脱模:紫外光固型聚合物采用紫外光固化设备SHG‑200紫外点光源进行固化,热固型聚合物固化采用与聚合物相应的固化温度及固化时间,聚合物固化后,把图形化了的晶圆从固化了的聚合物上脱离,得到类抛物面微凹透镜阵列;6)类抛物面微凸透镜阵列的复型:对上一步得到的类抛物面微凹透镜阵列样品溅射一层10nm C4F8疏水层,把光固型聚合物滴在其表面,使其能够完全覆盖,并盖上载玻片,用紫外点光源对其固化,并脱模,最终得到类抛物面微凸透镜阵列。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于西安交通大学,未经西安交通大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201310066465.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top