[发明专利]一种用于光刻设备的大掩模板面型补偿装置有效
| 申请号： | 201310064813.2 | 申请日： | 2013-03-01 |
| 公开（公告）号： | CN104020643A | 公开（公告）日： | 2014-09-03 |
| 发明（设计）人： | 许琦欣;龚辉 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京连和连知识产权代理有限公司 11278 | 代理人： | 王光辉 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种用于光刻设备的大掩模板面型补偿装置，位于照明单元与掩模板之间，包括：设置有若干抽排孔的玻璃板、抽排控制单元；所述玻璃板位于掩模板上方，与掩模板平行设置；所述玻璃板相对物镜组固定设置，且至少覆盖掩模板当前曝光区域；所述抽排控制单元通过所述抽排孔对所述玻璃板与掩模板之间的间隙进行抽排，在掩模板上下表面间形成压力差，补偿所述掩模板的自重变形量。与现有技术相比，本发明在不改变现有硬件架构的条件下，解决步进扫描光刻机中，大掩模板自重变形补偿问题，使掩模板在整个扫描运动过程中，物方视场内的自重变形得到有效控制，无需通过物镜对物面进行调节。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 光刻 设备 模板 补偿 装置 | ||
【主权项】：
一种用于光刻设备的大掩模板面型补偿装置，其特征在于，所述面型补偿装置位于照明单元与掩模板之间，包括：设置有若干抽排孔的玻璃板、抽排控制单元；所述玻璃板位于掩模板上方，与掩模板平行设置；所述玻璃板相对物镜组固定设置，且至少覆盖掩模板当前曝光区域；所述抽排控制单元通过所述抽排孔对所述玻璃板与掩模板之间的间隙进行抽排，在掩模板上下表面间形成压力差，补偿所述掩模板的自重变形量。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海微电子装备有限公司，未经上海微电子装备有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201310064813.2/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种碗坯取釉机
- 下一篇：三片式整体预制透水框架一次成型模具
