[发明专利]一种表面增强拉曼散射基底的制备方法无效
| 申请号： | 201310032239.2 | 申请日： | 2013-01-29 |
| 公开（公告）号： | CN103091983A | 公开（公告）日： | 2013-05-08 |
| 发明（设计）人： | 潘革波;李丰;葛海雄 | 申请（专利权）人： | 南京丰强纳米科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00 |
| 代理公司： | 南京知识律师事务所 32207 | 代理人： | 汪旭东 |
| 地址： | 211100 江苏省南京市江宁经济*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 一种表面增强拉曼散射基底的制备方法，包括如下步骤：1）准备带有图案的双层复合结构的柔性纳米压印模板；2）压印出有序纳米结构图案；3）真空蒸镀；4）除去纳米压印胶阻挡层；本发明方法可以应用于所有表面增强拉曼散射基底的制备，可以克服传统纳米压印制备SERS基底中存在的对基底要求苛刻，在形貌复杂、高曲率表面难以制备高分辨率的金属有序结构SERS基底的缺陷，且该方法工艺简单，能大面积、大规模、低成本地生产高性能SERS基底，有能力解决SERS基底的制备需求，能很好的满足目前的实际需求。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 表面 增强 散射 基底 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种表面增强拉曼散射基底的制备方法，包括如下步骤：1）、准备带有图案的双层复合结构的柔性纳米压印模板；2）、压印出有序纳米结构图案；3）、真空蒸镀；4）、除去纳米压印胶阻挡层；其特征在于：1）、准备带有图案的双层复合结构的柔性纳米压印模板：该双层复合模板上层为柔性的高分子弹性体衬底，杨氏模量范围在1~5 N/mm2,下层为刚性的光固化高分子压印层，杨氏模量范围在20 N/mm2以上，其厚度为20~500 nm，上下两层通过粘接或化学键紧密结合；2）、压印出有序纳米结构图案：采用复合式纳米压印方法将带有图案的柔性纳米压印模板在清洗干净的基底表面压印出有序纳米结构图案；3）、真空蒸镀：采用真空蒸镀的方法在已压印有有序纳米结构图案的基底表面沉积金属粒子；4）、除去纳米压印胶阻挡层：采用O2反应离子刻蚀工艺除去纳米压印胶阻挡层，最终获得金属粒子相间排列的金属有序结构表面增强拉曼散射基底。
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