[发明专利]一种低温低损伤多功能复合镀膜的装置和方法有效
| 申请号： | 201310027354.0 | 申请日： | 2013-01-23 |
| 公开（公告）号： | CN103074586A | 公开（公告）日： | 2013-05-01 |
| 发明（设计）人： | 雷浩;肖金泉;宫骏;孙超 | 申请（专利权）人： | 中国科学院金属研究所 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 沈阳优普达知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 21234 | 代理人： | 张志伟 |
| 地址： | 110016 辽*** | 国省代码： | 辽宁;21 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明属于薄膜制备领域，具体地说是一种低温低损伤多功能复合镀膜的装置和方法。该装置由包括两组四个矩形非平衡态磁控靶材、一个离子源和一个工件转架在内的真空腔体组成。两组非平衡态靶并排放置，每组中两个靶材呈面对面放置，可独立工作或同时工作；靶与靶之间距离可调，靶与靶的角度可调，靶材使用直流电源驱动，在每组靶材中靶与靶之间产生等离子体。工件转架位于两组靶材之间的中间位置，离子源位于一组靶材侧面，起离子清洗和辅助沉积的作用。本发明可以屏蔽二次电子和氧负离子等造成聚合物等有机材料损伤和温升，并通过低温线性离子源辅助沉积，实现在聚合物等有机材料表面上低温低损伤高速均匀沉积薄膜。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 低温 损伤 多功能 复合 镀膜 装置 方法 | ||
【主权项】：
一种低温低损伤多功能复合镀膜的装置，其特征在于，该装置为真空装置，由包括两组四个矩形非平衡态磁控靶材、一个低温线性离子源和一个加偏压的工件转架在内的真空腔体组成；其中：两组非平衡态磁控靶材并排放置，每组中两个靶材呈面对面放置，独立工作或同时工作；在每组非平衡态磁控靶材中，靶材与靶材之间距离在10‑15cm可调，靶材与靶材的角度在0‑15度可调，靶材使用直流电源驱动，靶材与靶材之间产生等离子体；工件转架位于两组非平衡态磁控靶材之间的中间位置，低温线性离子源位于一组非平衡态磁控靶材侧面，起离子清洗和辅助沉积的作用。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院金属研究所，未经中国科学院金属研究所许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201310027354.0/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
