[发明专利]一种光学薄膜膜系设计的方法有效
| 申请号： | 201310020700.2 | 申请日： | 2013-01-21 |
| 公开（公告）号： | CN103018902A | 公开（公告）日： | 2013-04-03 |
| 发明（设计）人： | 刘双;王烁;刘宵枫;童帅 | 申请（专利权）人： | 天津南玻节能玻璃有限公司;天津南玻工程玻璃有限公司;中国南玻集团股份有限公司 |
| 主分类号： | G02B27/00 | 分类号： | G02B27/00 |
| 代理公司： | 天津滨海科纬知识产权代理有限公司 12211 | 代理人： | 韩敏 |
| 地址： | 300000 天津市武清*** | 国省代码： | 天津;12 |
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| 摘要： | 本发明提供一种光学薄膜膜系设计的方法，该方法主要步骤有：计算并记录不同厚度不同材质的基片的基础光学常数和不同单层薄膜材料的基础光学常数，使用基片和单层薄膜的基础光学常数进行膜系设计，以目标物的实测光谱数据为标准计算出所述膜系设计的理论性能，或者以目标物实测颜色值为标准计算出所述膜系设计的理论性能，按上述任意一种膜系设计制备出新产品，通过Lambda950仪器测量新产品的光谱，根据新产品的光谱计算出新产品的第一性能，对比第一性能与理论性能，选择合理的膜系设计的结果来生产光学薄膜。本发明的步骤简洁有效，加快了膜系设计的速度，提高了膜系设计的准确性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光学薄膜 设计 方法 | ||
【主权项】：
一种光学薄膜膜系设计的方法，其特征在于，该方法包括如下步骤：1）对不同厚度不同材质的基片的基础光学常数进行计算，记录计算所得的基片基础光学常数；2）对不同单层薄膜材料的光学常数进行计算，记录计算所得的单层薄膜基础光学常数；3）以目标物的实测光谱数据为标准，使用所述步骤1）和步骤2）中的所述的基片基础光学常数和单层薄膜基础光学常数进行第一次的膜系设计；4）通过色彩空间理论计算出所述第一次的膜系设计的理论颜色值、理论性能及不同观察角度下的干扰色评估；5）按照上述步骤3）的第一次的膜系设计制备出新产品，通过Lambda950仪器测量所述新产品在300‑2500nm波长的光照射下的第一实测光谱，根据所述第一实测光谱计算出所述新产品的第一性能，将所述第一性能与步骤4）中的所述理论性能进行对比，在所述第一性能与所述理论性能基本一致的情况下，选择第一次的膜系设计的结果来生产光学薄膜；在所述第一性能与所述理论性能的差值大于设计要求的情况下，进入步骤3）中进行第二次的膜系设计，并用第二次的膜系设计取代第一次的膜系设计，并依次完成步骤3）至步骤5）；6）制备按上述步骤设计出的光学薄膜。
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