[发明专利]一种调焦调平测量方法有效
| 申请号： | 201310009894.6 | 申请日： | 2013-01-11 |
| 公开（公告）号： | CN103926799B | 公开（公告）日： | 2018-02-06 |
| 发明（设计）人： | 乔海洋;张青云;王帆 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备（集团）股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G01B11/14 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙)31237 | 代理人： | 罗磊 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提出一种调焦调平测量方法，由同一光源分束出两束测量光线以相同的入射角入射到硅片表面同一位置，形成两束不同的反射光，其特征在于，该方法包括如下步骤步骤一光源分束；步骤二分束后的光信号以相同角度不同方向入射到硅片面同一位置；步骤三测量两束反射光光强；步骤四分别对所述两束反射光光强信号进行归一化处理后进行傅立叶变换，提取一倍频信号并取均值，根据一倍频信号均值和硅片离焦量之间的映射关系计算离焦量ΔZ。与现有技术方案相比，本发明消除了由于硅片表面反射率非均匀性对调焦调平测量结果的影响，更有效的提高了调焦调平技术的工艺适应性能力。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 调焦 测量方法 | ||
【主权项】：
一种调焦调平测量方法，由同一光源分束出两束测量光线以相同的入射角入射到硅片表面同一位置，形成两束不同的反射光，其特征在于，该方法包括如下步骤：步骤一：光源分束；步骤二：分束后的光信号以相同角度不同方向入射到硅片面同一位置；步骤三：测量两束反射光光强；步骤四：分别对所述两束反射光光强信号进行归一化处理后进行傅立叶变换，提取一倍频信号并取均值，消去工艺引起的测量误差，根据一倍频信号均值和硅片离焦量之间的映射关系计算离焦量ΔZ，所述工艺引起的测量误差为由于硅片工艺引起反射光斑能量分布不均匀性，从而使反射光斑的能量重心发生偏移而产生的误差。
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