[发明专利]一种直拉硅单晶用石墨导流筒基体强化及表面涂层方法有效
申请号: | 201310007879.8 | 申请日: | 2013-01-10 |
公开(公告)号: | CN103046034A | 公开(公告)日: | 2013-04-17 |
发明(设计)人: | 蒋建纯;罗中保;姚勇刚;康志卫;陈东 | 申请(专利权)人: | 湖南南方搏云新材料有限责任公司 |
主分类号: | C23C20/08 | 分类号: | C23C20/08;C04B41/87;C30B15/00 |
代理公司: | 长沙星耀专利事务所 43205 | 代理人: | 宁星耀;舒欣 |
地址: | 410100 湖南省长*** | 国省代码: | 湖南;43 |
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摘要: | 一种直拉硅单晶用石墨导流筒基体强化及表面涂层的方法,包括以下步骤:(1)表面预处理;(2)采用碳氢气体进行化学气相沉积,强化基体;(3)按质量配比碳化硅粉∶硅粉∶溶剂=1∶(3~5)∶(6~8)的比例将各原料混合,搅拌均匀,得浆料;将所得浆料均匀涂覆于石墨导流筒表面,涂覆厚度30~50μm,然后置入固化炉中进行烘烤处理;(4)将石墨导流筒置于高温炉中进行原位反应,制得SiC外层;(5)将石墨导流筒置于化学气相沉积炉内,采用碳氢气体进行化学气相沉积。利用本发明,能有效地提高石墨导流筒在高温使用过程中的强度,可有效解决现有的石墨导流筒在短期使用后出现外表面氧化,整体开裂,掉块等现象的问题。 | ||
搜索关键词: | 一种 直拉硅单晶用 石墨 导流 基体 强化 表面 涂层 方法 | ||
【主权项】:
一种直拉硅单晶用石墨导流筒基体强化及表面涂层的方法,其特征在于,包括以下步骤:(1)对石墨导流筒的表面进行抛光、清洗和干燥处理;(2)将经步骤(1)处理后的石墨导流筒置于化学气相沉积炉内,采用碳氢气体进行化学气相沉积,沉积温度为900~1200℃,沉积时间50~100小时,碳氢气体流量为30~50L/min,氮气流量为15~30L/min;(3)按质量配比碳化硅粉:硅粉:溶剂=1:(3~5):(6~8)的比例将各原料混合,搅拌均匀,得浆料;采用刷涂法或喷涂法将所得浆料均匀涂覆于经步骤(2)处理后的石墨导流筒表面,涂覆厚度30~50μm,然后置入固化炉中进行烘烤处理,以60±2℃/h的升温速率升温至160~200℃,保温烘烤1~2小时;(4)将经步骤(3)处理后的石墨导流筒置于高温炉中进行原位反应,反应温度为1850~2300℃,采用氮气或氩气保护,保温反应2~6小时,制得SiC外层;(5)将经步骤(4)处理后的石墨导流筒置于化学气相沉积炉内,采用碳氢气体进行化学气相沉积,沉积温度为900~1200℃,沉积时间为10~20小时,碳氢气体流量为20~40L/min,氮气流量为10~20L/min。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C20-00 通过固态覆层化合物抑或覆层形成化合物悬浮液分解且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C20-02 .镀金属材料
C23C20-06 .镀金属材料以外的无机材料
C23C20-08 ..镀化合物、混合物或固溶体,例如硼化物、碳化物、氮化物
C23C20-04 ..镀金属
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C20-00 通过固态覆层化合物抑或覆层形成化合物悬浮液分解且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
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C23C20-06 .镀金属材料以外的无机材料
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