[发明专利]用于制造谐振器的方法有效
申请号: | 201280070384.3 | 申请日: | 2012-12-20 |
公开(公告)号: | CN104126153B | 公开(公告)日: | 2018-07-17 |
发明(设计)人: | T·黑塞勒;S·达拉皮亚扎 | 申请(专利权)人: | 斯沃奇集团研究和开发有限公司 |
主分类号: | G04F5/06 | 分类号: | G04F5/06;G04G17/02;B81C1/00;G04B17/06;G04C3/12 |
代理公司: | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人: | 秘凤华;吴鹏 |
地址: | 瑞士*** | 国省代码: | 瑞士;CH |
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摘要: | 本发明涉及一种用于在基底中制造谐振器的方法,其特征在于,该方法包括下述步骤:a)改变基底的至少一个区域的结构,以使所述至少一个区域更具有选择性;b)蚀刻所述至少一个区域,以便选择性地制造所述谐振器。 | ||
搜索关键词: | 谐振器 基底 制造 蚀刻 | ||
【主权项】:
1.一种用于在基底中制造谐振器(300,400)的方法,其特征在于,所述方法包括下述步骤:a)改变基底的至少一个区域的结构,以使所述至少一个区域更具有选择性;b)蚀刻所述至少一个区域,以便选择性地制造所述谐振器;所述谐振器包括联接到体部的惰性块,所述体部由在自身上卷绕以形成螺旋件的条状件形成,其中,所述体部具有至少一个中空部,以用于局部改变所述体部的刚性并从而调节所述谐振器的频率和/或调节等时性缺陷,所述至少一个中空部包括直的垂直侧面。
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