[发明专利]用于头痛症的治疗的设备

摘要

本发明涉及受试者头痛症治疗的系统，包括设备，其包括布置为紧靠鼻腔的组织并将振动施加至受试者的鼻腔以治疗头痛症的刺激构件(2)；以及频率调节模块(11)，其布置为调节由设备的刺激构件施加至鼻腔的振动的频率；振幅调节模块(11)，其布置为调节由刺激构件施加至鼻腔的振动的振幅；以及压力调节模块(9)，其布置为调节刺激构件紧靠鼻腔的组织的压力。

主权项

一种用于治疗受试者头痛症的系统，包括：可布置在第一状态和第二状态下的至少一个可膨胀的刺激构件，在所述第一状态下，所述刺激构件能被导入受试者的鼻腔，并且在所述第二状态下，所述刺激构件膨胀到以使所述刺激构件紧靠所述鼻腔的组织的体积；其中所述刺激构件包括一个前面刺激部、一个后面刺激部和至少一个保持部，在所述第二状态下，所述一个前面刺激部布置为紧靠所述鼻腔的前面部分的组织并将振动施加至所述鼻腔的所述前面部分，在所述第二状态下，所述一个后面刺激部被布置为紧靠所述鼻腔的后面部分的组织并将振动施加至所述鼻腔的所述后面部分，在所述第二状态下，所述至少一个保持部布置为紧靠所述鼻腔的组织；其中所述前面刺激部连接至第一膨胀构件以使所述前面刺激部膨胀，所述第一膨胀构件包括用于将流体供给至限定用于容纳流体的腔室的所述前面刺激部的通道，并且所述后面刺激部连接至第二膨胀构件以使所述后面刺激部膨胀，所述第二膨胀构件包括用于将流体供给至限定用于容纳流体的腔室的所述后面刺激部的通道；频率调节模块，其布置为控制由所述至少一个刺激构件的所述前面刺激部和所述后面刺激部施加至所述鼻腔的振动的频率；振幅调节模块，其布置为控制由所述至少一个刺激构件的所述前面刺激部和所述后面刺激部施加至所述鼻腔的振动的振幅；压力调节模块，其布置为控制所述至少一个刺激构件的所述前面刺激部和所述后面刺激部紧靠所述鼻腔的组织的压力；控制单元，其布置为通过控制调节模块的操作将振动引导至所述鼻腔的后面部分和前面部分中的至少一个，以使所述振动交替或同时地被施加至所述鼻腔的所述前面部分和所述后面部分的组织，并且包括：用户界面，其布置为从用户接收涉及所述头痛症的输入信息并发送关于所述治疗的指令。