[发明专利]图案形成方法、感光化射线性或感放射线性树脂组合物、抗蚀剂膜、电子元件及其制造方法有效
| 申请号： | 201280068005.7 | 申请日： | 2012-11-28 |
| 公开（公告）号： | CN104067174B | 公开（公告）日： | 2017-10-24 |
| 发明（设计）人： | 加藤启太;白川三千纮;高桥秀知;上村聪 | 申请（专利权）人： | 富士胶片株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/039 | 分类号： | G03F7/039;C08F212/00;C08F220/12;G03F7/038;G03F7/32;H01L21/027 |
| 代理公司： | 北京同立钧成知识产权代理有限公司11205 | 代理人： | 臧建明 |
| 地址： | 日本东京港区*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供图案形成方法、感光化射线性或感放射线性树脂组合物、抗蚀剂膜、电子元件及其制造方法。一种图案形成方法，包含(一)使用感光化射线性或感放射线性树脂组合物形成膜；(二)对所述膜进行曝光；及(三)使用包含有机溶剂的显影液对曝光后的所述膜进行显影而形成负型图案。所述感光化射线性或感放射线性树脂组合物含有树脂(A)，包含具有由于酸的作用分解而生成极性基的基的重复单元、以及具有芳香族基的重复单元；化合物(B)，通过照射光化射线或放射线而产生酸；及溶剂(C)。其中，树脂(A)是具有萘基等的重复单元的树脂及/或和/或所述感光化射线性或感放射线性树脂组合物含有具有萘环等的化合物(D)。 | ||
| 搜索关键词： | 图案 形成 方法 感光 射线 放射 线性 树脂 组合 抗蚀剂膜 电子元件 制造 | ||
【主权项】：
一种图案形成方法，包括：(一)使用感光化射线性或感放射线性树脂组合物而形成膜，所述感光化射线性或感放射线性树脂组合物含有：树脂(A)，包含具有由于酸的作用分解而生成极性基的基的重复单元、以及具有芳香族基的重复单元，化合物(B)，通过照射光化射线或放射线而产生酸，及溶剂(C)；(二)对所述膜进行曝光；以及(三)使用包含有机溶剂的显影液对曝光后的所述膜进行显影而形成负型图案；其中所述感光化射线性或感放射线性树脂组合物包含具有萘环、联苯环、蒽环、芴酮环、蒽酮环、呫吨酮环、噻吨酮环、乙烯基苯结构或二苯砜结构的化合物(D)，其中相对于所述感光化射线性或感放射线性树脂组合物的所有固体成分，所述具有萘环、联苯环、蒽环、芴酮环、蒽酮环、呫吨酮环、噻吨酮环、乙烯基苯结构或二苯砜结构的化合物(D)的含量为0.1质量％～6.0质量％。
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