[发明专利]用于组织治疗的孔隙率可控的装置、使用方法和制造方法

摘要

在各种实施例中，提供了一种包括气囊的装置，该气囊构造成响应于在第一压力下引入流体而扩张到扩张状态，其中，流体在第二压力以上灌注通过气囊，第二压力等于或大于第一压力。在各种实施例中，一种包括制造气囊的方法，该气囊构造成响应于在第一压力下引入流体而扩张到扩张状态，其中流体在第二压力以上时灌注通过气囊，第二压力等于或大于第一压力，将气囊设置在具有内腔的细长构件上，使内腔置于与气囊的内部体积流体连通。

主权项

一种气囊，所述气囊包括：第一多孔隔膜，所述第一多孔隔膜构造成在压力下开始灌注，所述压力等于或大于达到名义尺寸所需的压力，以及第二多孔隔膜，所述第二多孔隔膜构造成抵抗由第一隔膜在膨胀时产生的流体静力负载。