[发明专利]气体分离膜、其制造方法及采用该膜的气体分离膜组件无效

专利信息
申请号: 201280047544.2 申请日: 2012-08-14
公开(公告)号: CN103842060A 公开(公告)日: 2014-06-04
发明(设计)人: 石塚宪一;伊藤滋英 申请(专利权)人: 富士胶片株式会社
主分类号: B01D69/02 分类号: B01D69/02;B01D67/00;B01D69/10;B01D69/12;B01D71/02;B01D71/10;B01D71/52;B01D71/64;B01D71/70
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人: 庞东成;龚泽亮
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 一种气体分离膜,所述气体分离膜包含:支持体和形成于所述支持体上的分离层,所述分离层含有树脂;所述分离层在其与支持体相反的一侧含有亲水性改性处理面,构成所述亲水性改性处理面的层的膜厚为0.1μm以下,并且所述亲水性改性处理面的使用水测得的表面接触角为60度以下。
搜索关键词: 气体 分离 制造 方法 采用 组件
【主权项】:
一种气体分离膜,所述气体分离膜包含:支持体;和形成于所述支持体上的分离层,所述分离层含有树脂;所述分离层在与所述支持体相反的一侧包含亲水性改性处理面,构成所述亲水性改性处理面的层的膜厚为0.1μm以下,并且所述亲水性改性处理面的使用水测得的表面接触角为60度以下。
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