[发明专利]气体分离膜、其制造方法及采用该膜的气体分离膜组件无效
申请号: | 201280047544.2 | 申请日: | 2012-08-14 |
公开(公告)号: | CN103842060A | 公开(公告)日: | 2014-06-04 |
发明(设计)人: | 石塚宪一;伊藤滋英 | 申请(专利权)人: | 富士胶片株式会社 |
主分类号: | B01D69/02 | 分类号: | B01D69/02;B01D67/00;B01D69/10;B01D69/12;B01D71/02;B01D71/10;B01D71/52;B01D71/64;B01D71/70 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人: | 庞东成;龚泽亮 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 一种气体分离膜,所述气体分离膜包含:支持体和形成于所述支持体上的分离层,所述分离层含有树脂;所述分离层在其与支持体相反的一侧含有亲水性改性处理面,构成所述亲水性改性处理面的层的膜厚为0.1μm以下,并且所述亲水性改性处理面的使用水测得的表面接触角为60度以下。 | ||
搜索关键词: | 气体 分离 制造 方法 采用 组件 | ||
【主权项】:
一种气体分离膜,所述气体分离膜包含:支持体;和形成于所述支持体上的分离层,所述分离层含有树脂;所述分离层在与所述支持体相反的一侧包含亲水性改性处理面,构成所述亲水性改性处理面的层的膜厚为0.1μm以下,并且所述亲水性改性处理面的使用水测得的表面接触角为60度以下。
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