[发明专利]测定方法和测定装置有效
| 申请号： | 201280041663.7 | 申请日： | 2012-09-05 |
| 公开（公告）号： | CN103765158A | 公开（公告）日： | 2014-04-30 |
| 发明（设计）人： | 西泽佑司;四辻淳一;津田和吕;大重贵彦 | 申请（专利权）人： | 杰富意钢铁株式会社 |
| 主分类号： | G01B11/06 | 分类号： | G01B11/06;G01N21/35 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 李辉;黄纶伟 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明的目的在于非接触性/非破坏性且简便地测定形成于被检体的表面的覆膜的膜厚，得到覆膜的组分的信息，分光装置（10）事先测定已知的被检体的分光数据，运算装置（22）对测定出的分光数据进行基底分解，提取该分光数据的特征量，计算该特征量与形成于所述已知的被检体的表面的覆膜的膜厚和组分之间的关系，分光装置（10）测定所述被检体的分光数据，运算装置（22）对测定出的被检体的分光数据进行基底分解，提取该分光数据的特征量，根据计算出的已知的被检体的分光数据的特征量与覆膜的膜厚和组分之间的关系，计算形成于所述被检体的表面的覆膜的膜厚和组分。 | ||
| 搜索关键词： | 测定 方法 装置 | ||
【主权项】：
一种测定方法，其测定形成于被检体的表面的覆膜的膜厚和组分，该测定方法具有以下步骤：事先测定步骤，事先测定已知的被检体的分光数据；事先计算步骤，对在所述事先测定步骤中测定出的分光数据进行基底分解，提取该分光数据的特征量，计算该特征量与形成于所述已知的被检体的表面的覆膜的膜厚和组分之间的关系；测定步骤，测定所述被检体的分光数据；以及计算步骤，对在所述测定步骤中测定出的被检体的分光数据进行基底分解，提取该分光数据的特征量，根据在所述事先计算步骤中计算出的特征量与覆膜的膜厚和组分之间的关系，计算形成于所述被检体的表面的覆膜的膜厚和组分。
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