[发明专利]用于光刻机器群集的网络架构和协议

摘要

一种包含一个或多个光刻元件的群集式基板处理系统，每一光刻元件配置成依据图案数据独立曝光基板。每一光刻元件包含多个光刻子系统和控制网络，控制网络配置成在光刻子系统与至少一个元件控制单元之间传送控制信息，元件控制单元配置成向光刻子系统发送命令，光刻子系统配置成向元件控制单元发送响应。每一光刻元件还包含群集前端以作为面向操作者或主控系统的接口，前端配置成用于配发控制信息给至少一个元件控制单元以控制一个或多个光刻子系统对一个或多个晶圆的曝光的操作。前端配置成用于配发处理程序给元件控制单元，处理程序包含一组预定的命令和相关参数，每一命令对应于将被一个或多个光刻子系统执行的预定动作或一连串动作，且参数进一步定义动作或一连串动作如何被执行。

主权项

一种包含一个或多个光刻元件（10）的群集式基板处理系统，每个光刻元件配置成用于依据图案数据进行基板的独立曝光，且每个光刻元件包含：多个光刻子系统（16）；控制网络（120），配置成用于在所述光刻子系统与至少一个元件控制单元（12）之间传送控制信息，所述元件控制单元配置成向所述光刻子系统发送命令，且所述光刻子系统配置成向所述元件控制单元发送响应；以及群集前端（6），用于作为面向操作者或主控系统（2、4）的接口，该前端配置成用于将控制信息配发给所述至少一个元件控制单元以控制所述光刻子系统中的一个或多个对一个或多个晶圆进行曝光的操作；其中该前端被配置成用于将处理程序配发给所述元件控制单元，该处理程序包含一组预先定义的命令和相关参数，每个命令对应于将由所述光刻子系统中一个或多个所执行的预先定义的动作或一连串动作，且所述参数进一步定义该动作或该一连串动作如何被执行。