[发明专利]一种用于放射性同位素生产系统的靶设备有效

专利信息
申请号: 201280029863.0 申请日: 2012-06-13
公开(公告)号: CN103621189A 公开(公告)日: 2014-03-05
发明(设计)人: J.诺尔林;T.埃里克松 申请(专利权)人: 通用电气公司
主分类号: H05H6/00 分类号: H05H6/00
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 肖日松;谭祐祥
地址: 美国*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 发明提供一种用于放射性同位素生产系统的靶设备。所述靶设备包括生产室,所述生产室配置成容纳启动液体。所述生产室配置成接纳粒子束,所述粒子束入射到所述启动液体上,从而产生放射性同位素并且将所述启动液体的一部分转换成蒸汽。所述靶设备还包括冷凝室和流体通道,所述流体通道将所述生产室和冷凝室流体连通,并且配置成允许所述蒸汽从所述生产室流动到所述冷凝室。所述冷凝室配置成将所述蒸汽转换成冷凝液体。
搜索关键词: 一种 用于 放射性同位素 生产 系统 设备
【主权项】:
一种用于放射性同位素生产系统的靶设备,所述靶设备包括:生产室,所述生产室配置成容纳启动液体,所述生产室配置成接纳入射到所述启动液体上的粒子束,从而产生放射性同位素并将所述启动液体的一部分转换成蒸汽;冷凝室;以及流体通道,所述流体通道将所述生产室与所述冷凝室流体连通,并且配置成允许所述蒸汽从所述生产室流动到所述冷凝室,所述冷凝室配置成将所述蒸汽转换成冷凝液体。
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