[发明专利]生成超材料的方法及由此生成的超材料有效
申请号: | 201280028198.3 | 申请日: | 2012-06-06 |
公开(公告)号: | CN103649718B | 公开(公告)日: | 2017-03-22 |
发明(设计)人: | 熊启华;徐新龙;张俊 | 申请(专利权)人: | 南洋理工大学 |
主分类号: | G01N21/00 | 分类号: | G01N21/00;G01J3/44;G02F1/00;H01S5/10 |
代理公司: | 北京德琦知识产权代理有限公司11018 | 代理人: | 康泉,王珍仙 |
地址: | 新加坡*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 提供了一种生成在可见光‑红外范围内可操作的超材料的方法。所述方法包括a)将导电材料层沉积在基板上;b)在所述导电材料层上形成电子束光刻胶层;c)使用电子束光刻将所述电子束光刻胶层图案化以形成有图案的基板;d)将贵金属层沉积在所述有图案的基板上;和e)除去所述光刻胶。提供了一种在所述可见光‑红外范围内可操作的超材料,所述超材料在基板上包含具有约20nm至约40nm的最小线宽的裂环谐振器。还提供了一种用于化学或生物传感的透明光子器件或传感器,所述透明光子器件或传感器包含所述超材料。 | ||
搜索关键词: | 生成 材料 方法 由此 | ||
【主权项】:
一种制造具有包含形裂环谐振器的在可见光‑红外范围内可操作的超材料的传感器的方法,所述方法包括a)将导电材料层沉积在基板上;b)在所述导电材料层上形成电子束光刻胶层;c)使用电子束光刻将所述电子束光刻胶层图案化以形成有图案的基板;d)将贵金属层沉积在所述有图案的基板上;和e)除去所述光刻胶以在所述基板上生成包含所述裂环谐振器的超材料,所述形裂环谐振器具有20nm至40nm的最小线宽。
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