[发明专利]用于施加连续电场的装置和方法有效
| 申请号： | 201280022037.3 | 申请日： | 2012-05-04 |
| 公开（公告）号： | CN103620398B | 公开（公告）日： | 2017-03-29 |
| 发明（设计）人： | D·赛德瑞斯;A·伊勒斯;R·杰克逊 | 申请（专利权）人： | 基因徽型器件有限公司 |
| 主分类号： | G01N27/447 | 分类号： | G01N27/447;G01N27/453;B01D57/02 |
| 代理公司： | 北京纪凯知识产权代理有限公司11245 | 代理人： | 赵蓉民 |
| 地址： | 英国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种装置包括适合于产生具有离散电场分布的电场的电场施加组件、导电体积和电接口区域，电接口区域设置在导电体积和电场施加组件之间，以使得在与导电体积间隔开的位置处通过电场施加组件将离散电场施加到材料，其中电接口区域至少包括离子导电材料，离子导电材料布置成与导电体积相邻并接触导电体积；从而通过电接口区域平滑化由电场施加组件施加的离散电场，以使得在导电体积内建立的电场分布基本连续。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 施加 连续 电场 装置 方法 | ||
【主权项】：
一种用于施加连续电场的装置，所述装置包括：电场施加组件，所述电场施加组件适合于产生具有离散电场分布的电场；导电体积；和电接口区域，所述电接口区域设置在所述导电体积和所述电场施加组件之间，所述电接口区域布置成使得在与所述导电体积间隔开的位置处通过所述电场施加组件将离散电场施加到所述电接口区域；其中，所述电接口区域至少包括离子导电材料，所述离子导电材料布置成与所述导电体积相邻并接触所述导电体积；从而通过所述电接口区域平滑化由所述电场施加组件施加的所述离散电场，以使得在所述导电体积内建立的所述电场分布基本连续。
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