[发明专利]成膜装置有效
| 申请号： | 201280020605.6 | 申请日： | 2012-04-16 |
| 公开（公告）号： | CN103502504A | 公开（公告）日： | 2014-01-08 |
| 发明（设计）人： | 梶原雄二;安松保志;小长和也 | 申请（专利权）人： | 佳能安内华股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 吕林红 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种成膜装置，该成膜装置由遮挡装置能够选择靶材，能够防止发生在靶材间的污染。成膜装置（10）具备遮挡装置（54）和被固定于靶材电极（C）的第一遮挡板（65）侧的上部遮蔽板（63），遮挡装置（54）具有分别可旋转的第一遮挡板（65）及第二遮挡板（67）。另外，在第一遮挡板（65）的靶材电极（C）侧的面上，以夹着开口（65a，63a）的方式设置了旋转分离壁（72），在上部遮蔽板（63）的第一遮挡板（65）侧的面上，以夹着开口（65a，63a）的方式设置了固定分离壁（71）。在成膜处理时，通过旋转第一遮挡板（65）以便在旋转分离壁（72）与固定分离壁（71）之间形成迷宫，能够防止靶材（C）间的污染。 | ||
| 搜索关键词： | 装置 | ||
【主权项】：
一种成膜装置，其特征为，具有多个靶材电极、基板保持架、第一遮挡构件、第一分离壁和第二分离壁；该多个靶材电极具备安装靶材的安装面；该基板保持架在与上述多个靶材电极相向的位置保持上述基板；该第一遮挡构件可旋转地设置于上述多个靶材电极与上述基板保持架之间，具有在进行了旋转时与上述安装面相向的多个开口；该第一分离壁设置于上述第一遮挡构件的上述靶材电极侧的面上；该第二分离壁设置于上述第一遮挡构件与上述靶材电极之间，上述第一分离壁以夹着上述第一遮挡构件的上述多个开口的每一个的方式设置，上述第二分离壁设置成在上述第一遮挡构件绕旋转轴旋转了规定角度以上时，能够与上述第一分离壁抵接，在成膜处理时，上述第一分离壁位于在与上述第二分离壁之间形成间隙的位置。
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