[发明专利]光电场增强装置和配备有该装置的测量设备有效
申请号: | 201280014387.5 | 申请日: | 2012-03-16 |
公开(公告)号: | CN103430012A | 公开(公告)日: | 2013-12-04 |
发明(设计)人: | 山添昇吾;纳谷昌之;白田真也 | 申请(专利权)人: | 富士胶片株式会社 |
主分类号: | G01N21/65 | 分类号: | G01N21/65;B82Y15/00;B82Y20/00 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人: | 吕俊刚;刘久亮 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | [问题]为了提供一种能够以高灵敏度检测拉曼散射光的光电场增强装置。[解决方案]一种光电场增强装置,其包括:透明基板(10),在其表面上具有微细凹凸构造(23);以及金属微细凹凸构造层(24),其形成在所述微细凹凸构造(23)的表面上,其中,所述金属微细凹凸构造层(24)具有微细凹凸构造(25),在该微细凹凸构造(25)中,相邻凸部间的距离(Wm)小于所述透明基板(10)的所述微细凹凸构造(23)中的对应的相邻凸部间的距离(Wb)。 | ||
搜索关键词: | 电场 增强 装置 配备 测量 设备 | ||
【主权项】:
一种光电场增强装置,该光电场增强装置包括:透明基板,其表面上具有微细凹凸构造;以及在该微细凹凸构造的表面上形成的金属微细凹凸构造层;该金属微细凹凸构造层具有微细凹凸构造,该微细凹凸构造的相邻凸部间的间隔小于所述透明基板的微细凹凸构造的与该相邻凸部间对应的相邻凸部间的间隔;并且通过局域等离子体激元的光电场增强效应在所述金属微细凹凸构造层的表面上生成增强的光电场,所述局域等离子体激元是由照射到所述金属微细凹凸构造层上的光在该金属微细凹凸构造层的表面上感生的。
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