[发明专利]光电场增强装置和配备有该装置的测量设备有效

专利信息
申请号: 201280014387.5 申请日: 2012-03-16
公开(公告)号: CN103430012A 公开(公告)日: 2013-12-04
发明(设计)人: 山添昇吾;纳谷昌之;白田真也 申请(专利权)人: 富士胶片株式会社
主分类号: G01N21/65 分类号: G01N21/65;B82Y15/00;B82Y20/00
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人: 吕俊刚;刘久亮
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: [问题]为了提供一种能够以高灵敏度检测拉曼散射光的光电场增强装置。[解决方案]一种光电场增强装置,其包括:透明基板(10),在其表面上具有微细凹凸构造(23);以及金属微细凹凸构造层(24),其形成在所述微细凹凸构造(23)的表面上,其中,所述金属微细凹凸构造层(24)具有微细凹凸构造(25),在该微细凹凸构造(25)中,相邻凸部间的距离(Wm)小于所述透明基板(10)的所述微细凹凸构造(23)中的对应的相邻凸部间的距离(Wb)。
搜索关键词: 电场 增强 装置 配备 测量 设备
【主权项】:
一种光电场增强装置,该光电场增强装置包括:透明基板,其表面上具有微细凹凸构造;以及在该微细凹凸构造的表面上形成的金属微细凹凸构造层;该金属微细凹凸构造层具有微细凹凸构造,该微细凹凸构造的相邻凸部间的间隔小于所述透明基板的微细凹凸构造的与该相邻凸部间对应的相邻凸部间的间隔;并且通过局域等离子体激元的光电场增强效应在所述金属微细凹凸构造层的表面上生成增强的光电场,所述局域等离子体激元是由照射到所述金属微细凹凸构造层上的光在该金属微细凹凸构造层的表面上感生的。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于富士胶片株式会社,未经富士胶片株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201280014387.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top