[发明专利]用于会聚抛光的方法和系统无效
申请号: | 201280014310.8 | 申请日: | 2012-03-20 |
公开(公告)号: | CN103534062A | 公开(公告)日: | 2014-01-22 |
发明(设计)人: | T·I·苏拉特瓦拉;W·A·斯蒂尔;M·D·菲特;R·P·德斯贾登;D·C·梅森;R·J·迪拉-斯皮尔斯;L·L·王;P·E·米勒;P·杰拉格蒂;J·D·巴德 | 申请(专利权)人: | 劳伦斯利弗摩尔国际安全有限责任公司 |
主分类号: | B24B7/04 | 分类号: | B24B7/04 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人: | 白皎 |
地址: | 美国加*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 一种用于抛光光学元件的抛光系统,该系统包括:具有径向尺寸的抛光垫,设置在抛光垫上的隔板。所述隔板配置成部分围绕光学材料。光学元件在径向尺寸的范围内接触抛光垫,并且抛光垫的磨损率在径向尺寸范围内相对于径向尺寸基本上是不变的。 | ||
搜索关键词: | 用于 会聚 抛光 方法 系统 | ||
【主权项】:
一种用于抛光光学元件的抛光系统,该抛光系统包括:具有径向尺寸的抛光垫;以及隔板,所述隔板被布置在所述抛光垫上并且被构造成用以部分地围绕所述光学元件,其中,所述光学元件在所述径向尺寸的范围内接触所述抛光垫,并且所述抛光垫的磨损率在所述径向尺寸的范围内相对于径向尺寸基本上是不变的。
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