[实用新型]匀光装置、发光装置及投影系统有效
| 申请号: | 201220749276.6 | 申请日: | 2012-12-31 |
| 公开(公告)号: | CN203433197U | 公开(公告)日: | 2014-02-12 |
| 发明(设计)人: | 曹亮亮;胡飞 | 申请(专利权)人: | 深圳市光峰光电技术有限公司 |
| 主分类号: | G02B27/09 | 分类号: | G02B27/09;G03B21/20;G03B21/00;F21V5/04 |
| 代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
| 地址: | 518057 广东省深圳市南山区西丽*** | 国省代码: | 广东;44 |
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| 摘要: | 本实用新型实施例公开了一种匀光装置、发光装置及投影系统,包括用于对光源的出射光进行整形的匀光透镜,该出射光的光强为椭圆高斯分布;匀光透镜包括一旋转对称的自由曲面或者非球面,其由一自由曲线沿中心轴旋转180度获得,自由曲线由可对一标准曲线变形获得;除光源的中心轴方向外,沿着从该中心轴至中心轴的侧向的方向,入射光线在自由曲线上的入射角度与其在标准曲线上的入射角度的差值保持同号,该差值的绝对值单调递增,且差值的绝对值的变化率递减,以使自由曲线的出射光线比入射光线具有更均匀的光强分布或者照度分布。本实用新型实施例提供了一种实现匀光的匀光装置、发光装置及投影系统。 | ||
| 搜索关键词: | 装置 发光 投影 系统 | ||
【主权项】:
一种匀光装置,该匀光装置包括匀光透镜,该匀光透镜用于对光源的出射光进行整形,该出射光的光强为椭圆高斯分布,且该出射光在与所述光源的中心轴垂直的平面上形成椭圆形光斑,该匀光透镜的特征在于: 所述匀光透镜包括一旋转对称的自由曲面或者非球面,该自由曲面或者非球面由位于所述光源的中心轴方向的预定位置的一自由曲线沿所述中心轴旋转180度获得,该自由曲线由可对所述椭圆形光斑的长轴上的入射光线整形为平行光的标准曲线变形获得; 除所述光源的中心轴方向外,沿着从该中心轴至中心轴的侧向的方向,入射到所述自由曲面或者非球面的入射光线在所述自由曲线上的入射角度与该入射光线在标准曲线上的入射角度的差值保持同号,该入射光线在自由曲线上的入射角度与该入射光线在标准曲线上的入射角度的差值的绝对值单调递增,且该入射光线在自由曲线上的入射角度与该入射光线在标准曲线上的入射角度的差值的绝对值的变化率递减,以使所述自由曲线的出射光线比入射光线具有更均匀的光强分布。
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