[实用新型]隔膜局部处理装置有效
| 申请号： | 201220665292.7 | 申请日： | 2012-12-06 |
| 公开（公告）号： | CN202977571U | 公开（公告）日： | 2013-06-05 |
| 发明（设计）人： | 刘祖超;吴富权 | 申请（专利权）人： | 重庆市紫建电子有限公司 |
| 主分类号： | H01M2/18 | 分类号： | H01M2/18 |
| 代理公司： | 北京方圆嘉禾知识产权代理有限公司 11385 | 代理人： | 高萍 |
| 地址： | 405401*** | 国省代码： | 重庆;85 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 本实用新型涉及一种隔膜局部处理装置，结构包括对辊机，对辊机的上辊圆周表面具有均匀分布的凸点，隔膜被对辊机对辊后在隔膜的表面形成许多凹洞，这些凹洞除了可以减少电池在二次抽真空过程中的失液量，储存一定量的电解液，还可以储存在电池使用过程中产生的少量气体，减少因气体存在而增大的内阻，减少电池内部耗热量，提高电池的容量和循环性能。 | ||
| 搜索关键词： | 隔膜 局部 处理 装置 | ||
【主权项】：
隔膜局部处理装置，结构包括对辊机，其特征在于：对辊机的上辊圆周表面具有均匀分布的凸点。
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