[实用新型]一种光学元件镀膜装置有效
| 申请号： | 201220423536.0 | 申请日： | 2012-08-24 |
| 公开（公告）号： | CN202786405U | 公开（公告）日： | 2013-03-13 |
| 发明（设计）人： | 刘景峰 | 申请（专利权）人： | 北京奇峰蓝达光学科技发展有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/32 | 分类号： | C23C14/32 |
| 代理公司： | 北京中创阳光知识产权代理有限责任公司 11003 | 代理人： | 尹振启;张显光 |
| 地址： | 100016 北京市朝*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种光学元件镀膜装置，该装置设置有真空镀膜室，所述镀膜室内设置有蒸发镀膜原材料的蒸发源，还设置有电离蒸气粒子的离子源，镀膜室顶部设置有膜厚控制仪，膜厚控制仪带有可在水平方向旋转的工件盘，待镀膜基片固定在所述工件盘上被带动旋转，适配于基片的旋转路径设置有挡板，基片旋转至挡板上方时挡板可遮挡部分镀膜区域。本实用新型能够镀制的Ge膜层参数如下：1.电阻在100MΩ—1GΩ间可调；2.有效面积达到Φ10cm或10*10cm2；3.通过膜层厚度的均匀性保证电阻的一致性，一致性在5%以内。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光学 元件 镀膜 装置 | ||
【主权项】：
一种光学元件镀膜装置，该装置设置有真空镀膜室，其特征在于，所述镀膜室内设置有蒸发镀膜原材料的蒸发源，还设置有电离蒸气粒子的离子源，镀膜室顶部设置有膜厚控制仪，膜厚控制仪带有可在水平方向旋转的工件盘，待镀膜基片固定在所述工件盘上被带动旋转，适配于基片的旋转路径设置有挡板，基片旋转至挡板上方时挡板可遮挡部分镀膜区域。
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