[实用新型]磁控溅射设备有效
| 申请号： | 201220378504.3 | 申请日： | 2012-07-31 |
| 公开（公告）号： | CN202717842U | 公开（公告）日： | 2013-02-06 |
| 发明（设计）人： | 贺凡;肖旭东;刘壮;陈昊 | 申请（专利权）人： | 深圳先进技术研究院;香港中文大学 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人： | 吴平 |
| 地址： | 518055 广东省深圳*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及一种磁控溅射设备，包括衬底、靶材以及加热灯组件；所述靶材与衬底相对，所述加热灯组件为两组，对称设置在所述靶材的两侧，对所述衬底进行加热。本实用新型使用加热灯组件对衬底进行加热，取代电热丝，从而避免电热丝短路或者烧断。加热灯组件直接作用于衬底沉积有薄膜的一面，使得加热效果更好，并且能够避免衬底背表面温度过高而使衬底变形，加热灯组件结构简单，维持和更换也更方便。同时，加热灯组件对辉光区进行加热，加热了溅射粒子，使得溅射粒子到达衬底表面后，其能量会比电热丝加热时的要大，加热效果更好，从而使得制备的薄膜性能也大大提高。 | ||
| 搜索关键词： | 磁控溅射 设备 | ||
【主权项】：
一种磁控溅射设备，其特征在于，包括衬底、靶材以及加热灯组件；所述靶材的位置与衬底相对，所述加热灯组件为两组，对称设置在所述靶材的两侧，并且所述加热灯组件发出的光线加热所述衬底。
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