[实用新型]一种掩膜板

摘要

本实用新型公开了一种用于曝光工艺的掩膜板，包括透光衬底，透光衬底上具有至少一个图案区域，至少一个图案区域内具有半透光区和不透光区，半透光区与不透光区的宽度之和不小于曝光机的解析度，其中：不透光区的宽度小于曝光机的解析度，不透光区的至少一侧为半透光区；和/或，半透光区的宽度小于曝光机的解析度，半透光区的至少一侧为不透光区。本实用新型提供的掩膜板，通过半透光区实现对光刻胶的半曝光，经灰化去除经过半曝光的光刻胶后，基板上的光刻胶会形成宽度小于曝光机解析度的防护线，和/或，缝隙，然后再经过刻蚀剥离等工艺最终在基板中形成宽度较窄的线、和/或间隙，进而达到降低像素尺寸，提高像素密度的目的。

主权项

一种用于曝光工艺的掩膜板，包括透光衬底，所述透光衬底上具有至少一个图案区域，其特征在于，至少一个所述图案区域内具有半透光区和不透光区，半透光区与不透光区的宽度之和不小于曝光机的解析度，其中：所述不透光区的宽度小于曝光机的解析度，所述不透光区的至少一侧为半透光区；和/或，所述半透光区的宽度小于曝光机的解析度，所述半透光区的至少一侧为不透光区。