[实用新型]陶瓷基片双面光刻结构

摘要

本实用新型公开了一种陶瓷基片双面光刻结构，该双面光刻结构包括一支撑框架，支撑框架的上端设有上掩模板，支撑框架的下端设有下掩模板，上掩模板的上方及下掩模板的下方各设有一曝光装置，上掩模板、下掩模板之间设有一陶瓷基片支撑架，陶瓷基片支撑架上设有陶瓷基片，上掩模板、陶瓷基片、下掩模板三者的中心位置上下对应。该陶瓷基片双面光刻结构在陶瓷基片的上方、下方同时设置掩模板，通过上下两个曝光装置同时对陶瓷基片的上下表面进行曝光，这样就可保证陶瓷基片上下表面金属图形的位置绝对吻合，不会出现偏移，从而可有效保证陶瓷基片的质量，提高产品的合格率，采用这种方式还可有效提高生产效率，降低企业生产成本。

主权项

一种陶瓷基片双面光刻结构，其特征在于：其包括一支撑框架，所述支撑框架的上端设有上掩模板，所述支撑框架的下端设有下掩模板，所述上掩模板的上方及所述下掩模板的下方各设有一曝光装置，所述上掩模板、下掩模板之间设有一陶瓷基片支撑架，所述陶瓷基片支撑架上设有陶瓷基片，所述上掩模板、陶瓷基片、下掩模板三者的中心位置上下对应。