[实用新型]一种实验室用的单面刻蚀器件有效

专利信息
申请号: 201220276396.9 申请日: 2012-06-13
公开(公告)号: CN202610331U 公开(公告)日: 2012-12-19
发明(设计)人: 赖涛;刘杰;王慧;路忠林;盛雯婷;张凤鸣 申请(专利权)人: 天威新能源控股有限公司;保定天威集团有限公司
主分类号: C23F1/08 分类号: C23F1/08
代理公司: 成都行之专利代理事务所(普通合伙) 51220 代理人: 谭新民;谢敏
地址: 610000 四川省成都*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 实用新型公开了一种实验室用的单面刻蚀器件,包括刻蚀槽体(1)和吸液板(2),所述的刻蚀槽体(1)的上表面设置有一个凹槽(3),所述的吸液板(2)的形状与凹槽(3)匹配,吸液板(2)放置于凹槽(3)内,吸液板(2)的边缘处设置有一个缺口(4),吸液板(2)的中心均匀分布有小孔(5)。本实用新型的有益效果是:能够对不同规格、不同形貌的试验片进行刻蚀实验,并且有效的控制反应时间、刻蚀深度等技术参数,使实验所得的结果更加真实可靠;本装置在实验中所需要的反应液需要量比较少,降低了不必要的能源浪费和环境污染;本实用新型还具有结构简单、操作方便、成本低等优点。
搜索关键词: 一种 实验室 单面 刻蚀 器件
【主权项】:
一种实验室用的单面刻蚀器件,其特征在于,包括刻蚀槽体(1)和吸液板(2),所述的刻蚀槽体(1)的上表面设置有一个凹槽(3),所述的吸液板(2)的形状与凹槽(3)匹配,吸液板(2)放置于凹槽(3)内,吸液板(2)的边缘处设置有一个缺口(4),吸液板(2)的中心均匀分布有小孔(5)。
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