[实用新型]激光直写曝光机内层对位的装置有效
| 申请号： | 201220271432.2 | 申请日： | 2012-06-08 |
| 公开（公告）号： | CN202837809U | 公开（公告）日： | 2013-03-27 |
| 发明（设计）人： | 吴俊;李文静;李显杰;刘文海 | 申请（专利权）人： | 合肥芯硕半导体有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F9/00 |
| 代理公司： | 安徽合肥华信知识产权代理有限公司 34112 | 代理人： | 余成俊 |
| 地址： | 230601 安徽省*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种激光直写曝光机内层对位的装置，包括有光源、透镜、光栏、待对位的内层电路板，光源、透镜、光栏依次放置并处于同一水平线上，光栏上开有一个光栏孔，待对位的内层电路板覆在光栏的背面；光源发射的散射光经透镜聚成一束平行光束穿过光栏孔标记在待对位的内层电路板上。本实用新型体积小、成本低，而且对位精度高。 | ||
| 搜索关键词： | 激光 曝光 内层 对位 装置 | ||
【主权项】：
一种激光直写曝光机内层对位的装置，其特征在于：包括有光源、透镜、光栏、待对位的内层电路板，所述的光源、透镜、光栏依次放置并处于同一水平线上，所述的光栏上开有一个光栏孔，待对位的内层电路板覆在光栏的背面；所述的光源发射的散射光经透镜聚成一束平行光束穿过光栏孔标记在待对位的内层电路板上。
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