[实用新型]一种降低DLC涂层内应力的等离子全方位离子沉积设备有效
| 申请号： | 201220250727.1 | 申请日： | 2012-05-30 |
| 公开（公告）号： | CN202595255U | 公开（公告）日： | 2012-12-12 |
| 发明（设计）人： | 李灿民;陶满 | 申请（专利权）人： | 合肥永信等离子技术有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/32 | 分类号： | C23C14/32;C23C14/06 |
| 代理公司： | 安徽省合肥新安专利代理有限责任公司 34101 | 代理人： | 何梅生;王伟 |
| 地址： | 230041 安徽省合肥市*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 一种降低DLC涂层内应力的等离子全方位离子沉积设备，该设备包括真空镀膜室、抽气系统、充气系统、真空检测系统以及高压电源系统，所述真空镀膜室内设有用于放置镀膜工件的绝缘支架，其特征在于，该设备还设置有DLC涂层掺杂装置，所述掺杂装置包括与真空镀膜室通过管道相连的外置式气源输入装置和位于真空镀膜室内的内置式金属蒸汽源高频感应加热装置。本实用新型在原有等离子全方位离子沉积设备的基础上增设DLC涂层的掺杂装置，降低DLC涂层的内应力，实现不同的功能需求。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 降低 dlc 涂层 内应力 等离子 全方位 离子 沉积 设备 | ||
【主权项】：
一种降低DLC涂层内应力的等离子全方位离子沉积设备，该设备包括真空镀膜室、抽气系统、充气系统、真空检测系统以及高压电源系统，所述真空镀膜室内设有用于放置镀膜工件的支架，其特征在于，该设备还设置有DLC涂层掺杂装置，所述掺杂装置包括与真空镀膜室通过管道相连的外置式气源输入装置和位于真空镀膜室内的内置式金属蒸汽源高频感应加热装置。
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