[实用新型]一种去除单晶硅埚底料中石英的装置

摘要

本实用新型公开了一种去除单晶硅埚底料中石英的装置，包括在保温筒内外壁分别设有加热器及温控显示器；在保温筒的内底面上的底撑上放置有反应釜，反应釜与加热器同心分布；保温筒装有上盖板，反应釜装有反应釜盖板。本实用新型的装置使用时，向保温筒内加注自来水，后向已放置好反应釜内装入待去除石英的硅原料，再向反应釜内加入氢氟酸，盖合好反应釜盖板及上盖板，通过温控显示器启动及设置相关工作参数，直至实现反应要求即成。本实用新型保证了氢氟酸与埚底料在室温下显著加快反应速度、周期缩短、效率提高。

主权项

一种去除单晶硅埚底料中石英的装置，其特征在于：包括保温筒（4），在保温筒（4）内壁或内底部设置有加热器（5），在保温筒（4）的外壁设有温控显示器（6），温控显示器（6）与加热器（5）之间通过电控装置连接；在保温筒（4）的内底面上设置有底撑（8），在底撑（8）上放置有反应釜（3），反应釜（3）与加热器（5）同心分布；保温筒（4）安装有上盖板（1），反应釜（3）安装有反应釜盖板（2）；所述底撑（8）中心有圆柱形定位桩，所述反应釜（3）底部设有与圆柱形定位桩相配合的内凹圆型定位槽。