[实用新型]一种新型电磁结构及应用其的对焦器有效

专利信息
申请号: 201220197494.3 申请日: 2012-05-04
公开(公告)号: CN202632927U 公开(公告)日: 2012-12-26
发明(设计)人: 毕磊 申请(专利权)人: 峰岹科技(深圳)有限公司
主分类号: H01F7/02 分类号: H01F7/02;G02B7/04
代理公司: 深圳市合道英联专利事务所(普通合伙) 44309 代理人: 廉红果
地址: 518057 广东省深圳市南*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 实用新型公开了一种新型电磁结构及应用其的对焦器。电磁结构,其包括磁钢本体及上、下磁轭,所述的上、下磁轭分别设于所述的磁钢本体的两侧。本新型结构,由于只用到一片磁体,安装非常方便,有利于提高生产的良品率;另外,由于线圈在每一处所感受到的有效磁场都是较强的,因而线圈的利用率大为提高,这对于改善对焦器的性能,以及实现小型对焦器是非常重要的。
搜索关键词: 一种 新型 电磁 结构 应用 对焦
【主权项】:
一种新型电磁结构,其特征在于:其包括磁钢本体及上、下磁轭,所述的上、下磁轭分别设于所述的磁钢本体的两侧。
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