[实用新型]连续式镀膜设备有效
| 申请号： | 201220141891.9 | 申请日： | 2012-04-06 |
| 公开（公告）号： | CN202558929U | 公开（公告）日： | 2012-11-28 |
| 发明（设计）人： | 应伟达 | 申请（专利权）人： | 上海千达不锈钢有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/56 | 分类号： | C23C14/56 |
| 代理公司： | 上海东亚专利商标代理有限公司 31208 | 代理人： | 董梅 |
| 地址： | 201100 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本实用新型公开一种连续式镀膜设备，包含有多弧离子源、真空装置、进气装置和温控装置的真空镀膜机构，由有进料口的进料室、有出料口的出料室和真空镀膜室构成耐压的密封空间，所述的真空镀膜室两端分别与进料室、出料室密封连接，所述的真空镀膜机构设在真空镀膜室，其中，所述的进料室设有放卷轴，放卷轴上设有刹车机构；所述的出料室设有收卷轴，收卷轴由电机带动；所述的真空镀膜室内设有张力辊。本实用新型的连续式镀膜设备能不间断地进行金属基材离子镀膜，且本设备操作简单、工序简便、产量大、效率高，节约能源达70%以上，节约劳动力为80%以上。 | ||
| 搜索关键词： | 连续 镀膜 设备 | ||
【主权项】：
一种连续式镀膜设备，包含有多弧离子源、真空装置、进气装置和温控装置的真空镀膜机构，其特征在于：由有进料口的进料室、有出料口的出料室和真空镀膜室构成耐压的密封空间，所述的真空镀膜室两端分别与进料室、出料室密封连接，所述的真空镀膜机构设在真空镀膜室，其中，所述的进料室设有放卷轴，放卷轴上设有刹车机构；所述的出料室设有收卷轴，收卷轴由电机带动；所述的真空镀膜室内设有张力辊。
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