[发明专利]亲水性光致产酸剂和包含它的抗蚀剂组合物有效

专利信息
申请号: 201210576252.X 申请日: 2012-12-26
公开(公告)号: CN103186045A 公开(公告)日: 2013-07-03
发明(设计)人: 尹队卿;柳京辰;李承宰;朱炫相 申请(专利权)人: 锦湖石油化学株式会社
主分类号: G03F7/004 分类号: G03F7/004;G03F7/039
代理公司: 北京鸿元知识产权代理有限公司 11327 代理人: 黄丽娟;陈英俊
地址: 韩国*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要: 发明公开了一种亲水性光致产酸剂和含有它的抗蚀剂组合物,所述亲水性光致产酸剂由具有以下式1或2所示结构的第一(甲基)丙烯酸酯和选自第二(甲基)丙烯酸酯、烯烃类化合物及它们的混合物中的可聚合单体共聚而制得,该可聚合单体的每一种包含选自羟基、羧基、内酯基、腈基和卤素基团所构成的组中的官能团:[式1][式2]其中,各个取代基在说明书中限定。所述亲水性光致产酸剂均匀地分散在抗蚀剂膜中,从而改善了抗蚀剂图案的线边缘粗糙度。
搜索关键词: 亲水性 光致产酸剂 包含 抗蚀剂 组合
【主权项】:
1.一种亲水性光致产酸剂,所述亲水性光致产酸剂由具有下式1或2所示结构的第一(甲基)丙烯酸酯和选自第二(甲基)丙烯酸酯、烯烃类化合物及它们的混合物的可聚合单体共聚而制得,所述可聚合单体的每一种包含选自羟基、羧基、内酯基、腈基和卤素基团的官能团:[式1][式2]其中,R11和R21各自独立地选自氢原子、C1-C4烷基和C1-C4烷氧基;R12和R22各自独立地选自C1-C20亚烷基、C2-C20亚烯基、C1-C20杂亚烷基、C2-C20杂亚烯基、C3-C30亚环烷基、C3-C30亚环烯基、C2-C30杂环亚烷基和C3-C30杂环亚烯基;R23和R24各自独立地选自氢原子、C1-C20烷基、C1-C20链烯基、C3-C30环烷基、C3-C30环烯基、C6-C30芳基和C2-C30杂环基,或者R23和R24彼此结合而形成C3-C30饱和或不饱和烃环;X1选自包含选自卤素基团、C1-C5卤代烷基和氰基中的官能团的C1-C20亚烷基;C6-C30亚芳基;和C5-C30杂亚芳基;Y+是由下式3表示的化合物:[式3]其中,R31、R32和R33各自独立地选自C1-C20烷基、C2-C20链烯基、C3-C30环烷基、C3-C30环烯基和C6-C30芳基,其中R31、R32和R33的一个或多个氢原子各自独立地被选自卤素基团、羟基、羧基、硫基、C1-C10烷基、C1-C10烷氧基、C6-C18芳基、(C1-C10烷基)硫基、C6-C18芳氧基、(甲基)丙烯酰氧基、(C1-C10烷基)羰基氧基以及它们的组合中的任何取代基取代;Z-是由下式4表示的化合物:[式4]其中,R41选自C1-C20亚烷基、C2-C20亚烯基、C1-C20杂亚烷基、C2-C20杂亚烯基、C3-C30亚环烷基、C3-C30亚环烯基、C2-C30杂环亚烷基和C3-C30杂环亚烯基;R42选自氢原子、卤素原子、C1-C20烷基、C2-C20链烯基、C1-C20烷氧基、C1-C20烷氧基烷基、C1-C20卤代烷基、C1-C20卤代烷氧基、C1-C20烷硫基、C3-C30环烷基、C3-C30环烯基、C6-C30芳基、C7-C30芳烷基、C5-C30杂环基和其中W1是-(C=O)-或-(SO2)-;W2是C1-C10亚烷基或C1-C10杂亚烷基;W3选自氢原子、卤素基团、C1-C10烷基、C2-C20链烯基、C1-C10烷氧基、C1-C10卤代烷基、(C1-C10烷基)硫基、C3-C30环烷基、C6-C30芳基、(C6-C30芳基)氧基、(C6-C30芳基)硫基、C5-C30杂环基以及它们的组合;X2是其中至少一个氢原子被卤素基团取代的C1-C20卤代亚烷基;和m和n各自独立地是0或1。
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