[发明专利]亚波长矩形环阵列四分之一波片及其制作方法有效

专利信息
申请号: 201210575507.0 申请日: 2012-12-26
公开(公告)号: CN102981205A 公开(公告)日: 2013-03-20
发明(设计)人: 王钦华;陈中辉;楼益民;曹冰;李孝峰 申请(专利权)人: 苏州大学
主分类号: G02B5/30 分类号: G02B5/30
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 常亮
地址: 215123 江苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了一种亚波长矩形环阵列四分之一波片及其制作方法,该波片包括SiO2基片及位于所述基片上的银膜,银膜由若干周期性的二维环形孔径阵列构成,二维环形孔径中相邻的两个孔径长度L1、L2相等、宽度W1、W2不等,当入射的线偏振光以偏振方位角从基片下方入射时,通过基片和银膜后的透射场沿两正交方向分量的位相满足并且当时,振幅分量Ex、Ey相等。本发明提供的等离子1/4波片结构简单、易于集成,在光学传感系统、先进的纳米光子器件以及集成光学系统中,具有很大的应用价值。
搜索关键词: 波长 矩形 阵列 四分之一 及其 制作方法
【主权项】:
1.一种亚波长矩形环阵列四分之一波片,其特征在于,所述波片包括SiO2基片及位于所述基片上的银膜,所述银膜由若干周期性的二维环形孔径阵列构成,二维环形孔径中相邻的两个孔径长度L1、L2相等、宽度W1、W2不等,当入射的线偏振光以偏振方位角从基片下方入射时,通过基片和银膜后的透射场沿两正交方向分量的位相满足并且当时,振幅分量Ex、Ey相等。
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