[发明专利]形成包括含胺盐与胺的聚合物的细微图案的水溶性树脂组成物及使用其形成细微图案的方法有效

专利信息
申请号: 201210548586.6 申请日: 2012-12-17
公开(公告)号: CN103513510A 公开(公告)日: 2014-01-15
发明(设计)人: 朴相昱;申奉河;田钟振;金三珉;徐东辙 申请(专利权)人: 韩国锦湖石油化学株式会社
主分类号: G03F7/00 分类号: G03F7/00;G03F7/16;G03F7/004
代理公司: 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 代理人: 臧建明
地址: 韩国*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要: 发明公开了一种在由显像处理形成了图案的光阻膜上进行涂抹及热处理以减少所述图案的大小的用于形成细微图案的水溶性树脂组成物,所述组成物包括用下面的[化学式1]标示的水溶性聚合物及第1水溶性溶剂,[化学式1]其中,所述[化学式1]中,R1、R2、R3和R5各为包括独立的氢、C1~C20的烷基、C3~C20的烯基、C6~C20的芳基、C1~C20的羟烷基、C6~C20的羟芳基、C2~C20的羰烷基、C7~C20的羰芳基、C1~C20的烷氧基、C6~C20的芳基烷氧基或C3-30的环烷基,R4是芳基磺酸、烷基磺酸、烷基羧酸、芳基酸、盐酸、氢氟酸、溴酸或无机酸,且a∶b=1~3∶0.1~3。
搜索关键词: 形成 包括 含胺盐 聚合物 细微 图案 水溶性 树脂 组成 使用 方法
【主权项】:
一种减小光阻图案的大小的方法,其作为形成细微的阻板图案的图案形成方法,对显像处理之后的光阻图案,用包括同时含有胺盐与胺化合物部分的水溶性聚合物及水溶性溶剂的用于对光阻图案涂层的水性涂层组成物来进行处理,由此来减小由显像处理形成的阻板图案的大小。
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