[发明专利]制造滤光板用的掩模板、滤光板的形成方法、显示装置有效
申请号: | 201210536593.4 | 申请日: | 2012-12-12 |
公开(公告)号: | CN103869605B | 公开(公告)日: | 2017-08-08 |
发明(设计)人: | 张莉;陈颖明;王菁晶;唐文静 | 申请(专利权)人: | 上海仪电显示材料有限公司 |
主分类号: | G03F1/54 | 分类号: | G03F1/54;G03F7/20;G02F1/1335;G02B5/20 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司11227 | 代理人: | 骆苏华 |
地址: | 201108 上海*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 一种制造滤光板用的掩模板、滤光板的形成方法、显示装置,掩模板包括基板,基板的边长大于滤光板的边长;位于所述基板上的图形层,所述图形层包含形成至少3个液晶面板的滤光板上的遮光图案的开口区,以及开口区界定出的遮光区;所述图形层分为中央区域和周边区域,位于周边区域至少1个液晶面板的开口区的线宽与位于中央区域液晶面板开口区的线宽不相等。本技术方案对掩模板由于重力作用而弯曲、大型曝光机本身的光强和间距分布均匀性,大型显影机特别是倾斜式显影机本身的不均匀性等外部原因对遮光图案线宽均匀性造成的影响进行校正,使利用本技术方案的掩模板形成滤光板上的遮光图案时,中央区域和周边区域的遮光图案的线宽基本相等。 | ||
搜索关键词: | 制造 滤光 模板 形成 方法 显示装置 | ||
【主权项】:
一种制造液晶显示装置用滤光板时使用的掩模板,其特征在于,包括:基板,所述基板的边长大于所述滤光板的边长;位于所述基板上的图形层,所述图形层包含开口区以及开口区界定出的遮光区,用来形成至少3个液晶面板的滤光板上的遮光图案;对应所有液晶面板的所述图形层分为中央区域和周边区域,位于周边区域至少1个液晶面板的开口区的线宽与位于中央区域液晶面板开口区的线宽不相等。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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