[发明专利]显影装置、成像装置和处理盒有效
| 申请号： | 201210507124.X | 申请日： | 2012-11-30 |
| 公开（公告）号： | CN103135411A | 公开（公告）日： | 2013-06-05 |
| 发明（设计）人： | 中川秀一 | 申请（专利权）人： | 株式会社理光 |
| 主分类号： | G03G15/08 | 分类号： | G03G15/08;G03G21/18;G03G15/00 |
| 代理公司： | 北京纪凯知识产权代理有限公司 11245 | 代理人： | 赵蓉民;张全信 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明的发明名称是：显影装置、成像装置和处理盒。提供了显影装置，其包括：显影剂承载元件，其携带单组分显影剂；电荷给予元件，其与显影剂承载元件接触地放置，并且对显影剂承载元件上的单组分显影剂充电；以及偏压供应元件，其对电荷给予元件供应偏压，其中单组分显影剂具有8.0logΩ·cm至10.9logΩ·cm的体积电阻率，并且显影装置满足下式：(K-1)0.75/v0.25<0.7×RT-6.6其中：v[m/sec]是在与显影剂承载元件相同的方向上移动的表面处接触显影剂承载元件的潜像承载元件的表面移动速度；v’[m/sec]是显影剂承载元件的表面移动速度；K是比v’/v；并且RT[logΩ·cm]是单组分显影剂的体积电阻率。 | ||
| 搜索关键词： | 显影 装置 成像 处理 | ||
【主权项】：
显影装置，包括：显影剂承载元件，其携带单组分显影剂；电荷给予元件，其与所述显影剂承载元件接触地放置，并且对所述显影剂承载元件上的所述单组分显影剂充电；以及偏压供应元件，其对所述电荷给予元件供应偏压，其中所述单组分显影剂具有8.0logΩ·cm至10.9logΩ·cm的体积电阻率，并且其中所述显影装置满足下式：(K‑1)0.75/v0.25<0.7×RT‑6.6其中：v[m/sec]是在与所述显影剂承载元件相同的方向上移动的表面处接触所述显影剂承载元件的潜像承载元件的表面移动速度；v’[m/sec]是所述显影剂承载元件的表面移动速度；K是所述显影剂承载元件的表面移动速度和所述潜像承载元件的表面移动速度的比v’/v；并且RT[logΩ·cm]是所述单组分显影剂的体积电阻率。
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