[发明专利]一种声表面波器件中的铝膜湿法腐蚀方法无效

专利信息
申请号: 201210495452.2 申请日: 2012-11-28
公开(公告)号: CN102978621A 公开(公告)日: 2013-03-20
发明(设计)人: 董启明 申请(专利权)人: 北京中讯四方科技股份有限公司
主分类号: C23F1/02 分类号: C23F1/02;G03F7/38;G03F7/40
代理公司: 北京凯特来知识产权代理有限公司 11260 代理人: 郑立明;赵镇勇
地址: 100194 北*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 一种声表面波器件中的铝膜湿法腐蚀方法,属于声表面波器件的光刻技术。本发明当铝膜厚度(μm)与声表面波器件的声波长(m/s)之比大于10%时,将经过涂光刻胶和曝光处理后的晶片进行预烘烤和提高温度的第二次烘烤。增加烘烤工序可以使得在湿法刻蚀的溶液温度较高时光刻胶不易熔化,使其既满足了铝膜厚且占空比大的设计要求,又增强了光刻胶的性能,从而保证了铝膜的线条宽度。
搜索关键词: 一种 表面波 器件 中的 湿法 腐蚀 方法
【主权项】:
一种声表面波器件中的铝膜湿法腐蚀方法,其特征在于,当铝膜厚度(μm)与声表面波器件的声波长(m/s)之比大于10%时,将经过涂光刻胶和曝光处理后的晶片进行预烘烤和提高温度的第二次烘烤。
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