[发明专利]用于运行射线治疗设备的方法和射线治疗设备

摘要

本发明涉及一种用于计算在射线治疗设备中局部的部分射线剂量的方法，用于在目标体积（4）中利用多个射束（3a,3b,3c,3d）施加总射线剂量，其中，该方法包括确定至少一个第一控制平面（1），用于控制射束的定剂量；确定至少一个第二控制平面（2a,2b），用于控制射束的定位；和将射束（3a,3b,3c,3d）与第一控制平面（1）和第二控制平面（2a,2b）的每个对应。该方法对于第一控制平面（1）的至少一个面（10a,11a）隔离地计算所有与该第一控制平面对应的射束的相应的局部的部分射线剂量。

主权项

一种用于计算在射线治疗设备中局部的部分射线剂量(Di)的方法，用于在目标体积中利用多个射束施加总射线剂量(Dpr)，该方法包括：‑确定至少一个第一控制平面，用于控制射束(3,3a,3b,3c,3d,3e,3f)的定剂量，其中，所述至少一个第一控制平面(1)的每个将所述目标体积(4)划分为两个子体积，‑分别对于所述至少一个第一控制平面的每个的正面(10,10a,10b,10c,10d,10e)和背面(11,11a,11b,11c,11d,11e)：对应至少一个射束，‑对于每个第一控制平面(1,1a,1b)：对于两个子体积的每个分别确定子体积总射线剂量(Do,Dr)，作为总射线剂(Dpr)量的分数(Fo,Fr)，该方法还包括：‑确定至少一个第二控制平面(2,2a,2b,2c,2d,2e,2f,2g)，用于控制射束的定位，其中，所述至少一个第二控制平面(2,2a,2b,2c,2d,2e,2f,2g)的每个将目标体积(4)划分为两个子体积，‑将至少一个射束(3,3a,3b,3c,3d,3e,3f)与所述至少一个第二控制平面(2,2a,2b,2c,2d,2e,2f,2g)的每个对应，其中，将与第二控制平面(2,2a,2b,2c,2d,2e,2f,2g)对应的射束(3,3a,3b,3c,3d,3e,3f)通过各自的第二控制平面这样两分，使得这样获得的两个射束(3,3a,3b,3c,3d,3e,3f)的局部的部分射线剂量(Di)分别在不同的通过各自的第二控制平面定义的子空间中不等于零，该方法还包括：‑对于第一控制平面的至少一个面：隔离地计算所有与该第一控制平面(1,1a,1b)对应的射束的相应的局部的部分射线剂量(Di)，从而与各自的第一控制平面(1,1a,1b)的面向各自的子体积的面对应的那些射束的局部的部分射线剂量之和得到各自的子体积总射线剂量(Do,Dr)，并且其余的与所述第一控制平面(1,1a,1b)对应的射束(3,3a,3b,3c,3d,3e,3f)的局部的部分射线剂量之和得出在各自的子体积总射线剂量(Do,Dr)和总射线剂量(Dpr)之间的差。