[发明专利]基板掩膜对位方法

摘要

本发明属于对位方法技术领域，公开了一种基板掩膜对位方法，首先在一掩膜版上形成多组对位标记图案，并选取若干个大尺寸基板作为样本基板，通过该掩膜版分别在每块样本基板上形成多组对位标记图案，将样本基板分为多个子基板区域，然后对样本基板实施掩膜工艺，通过样本基板上的多组对位标记图案可实现对每个子基板区域的对位，且至少通过两组对位标记图案可对位一个子基板区域，在对位过程中记录并存储每组对位标记图案的位置，根据存储的多组对位标记图案的位置参数对非样本基板实施掩膜工艺，保证了非样本基板上同层图案间的缝合度和不同层图案间的重合度，能够实现良好品质大尺寸基板的大量生产。

主权项

一种基板掩膜对位方法，其特征在于，包括：S1、在一掩膜版上形成至少一组对位标记图案；S2、选取一定数量的基板作为样本基板，利用所述掩膜版，分别在每块所述样本基板上形成多组对位标记图案，所述多组对位标记图案将所述样本基板分为多个子基板区域；S3、对多个所述样本基板实施掩膜工艺，通过所述样本基板上的多组对位标记图案可实现对每个所述子基板区域的对位，且至少通过两组所述对位标记图案可对位一个所述子基板区域，在对位过程中记录并存储所述样本基板上每组对位标记图案的位置，然后根据存储的多组对位标记图案的位置参数对非样本基板实施掩膜工艺。