[发明专利]一种改进型晶硅电池片的清洗工艺在审
| 申请号： | 201210445432.4 | 申请日： | 2012-11-08 |
| 公开（公告）号： | CN103806108A | 公开（公告）日： | 2014-05-21 |
| 发明（设计）人： | 魏代龙;徐盼盼;陶智华;周利荣 | 申请（专利权）人： | 上海神舟新能源发展有限公司 |
| 主分类号： | C30B33/10 | 分类号： | C30B33/10 |
| 代理公司： | 上海科盛知识产权代理有限公司 31225 | 代理人： | 蒋亮珠 |
| 地址： | 201112 上海市闵行*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明及一种改进型晶硅电池片的清洗工艺，该工艺包括以下步骤：将制绒后的晶硅电池片依次经过碱洗和酸洗处理，所述的碱洗采用的碱液为：浓度范围为0.1mol/L～3mol/LNH4OH与浓度范围为0.1mol/L～3mol/LH2O2的混合液，该混合液中NH4OH和H2O2的浓度比例为1～2，碱洗的温度为30℃～60℃，时间为2～30min；所述的酸洗采用的酸液为浓度范围为0.15mol/L～3mol/LHCl与浓度范围为0.15mol/L～3mol/L的H2O2的混合物，该混合物中HCl和H2O2的浓度比例为1～1.5之间，反应温度范围为30℃～60℃，反应时间范围为2～30min。与现有技术相比，本发明具有成本低、方法简单、效果好等优点。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 改进型 电池 清洗 工艺 | ||
【主权项】：
一种改进型晶硅电池片的清洗工艺，其特征在于，该工艺包括以下步骤：将制绒后的晶硅电池片依次经过碱洗和酸洗处理，所述的碱洗采用的碱液为：浓度范围为0.1mol/L～3mol/LNH4OH与浓度范围为0.1mol/L～3mol/LH2O2的混合液，该混合液中NH4OH和H2O2的浓度比例为1～2，碱洗的温度为30℃～60℃，时间为2～30min；所述的酸洗采用的酸液为浓度范围为0.15mol/L～3mol/LHCl与浓度范围为0.15mol/L～3mol/L的H2O2的混合物，该混合物中HCl和H2O2的浓度比例为1～1.5之间，反应温度范围为30℃～60℃，反应时间范围为2～30min。
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