[发明专利]旋转式射频磁控溅射法制备无裂纹多层高阻隔包装薄膜

摘要

旋转式射频磁控溅射法制备无裂纹多层高阻隔包装薄膜，它涉及复合包装薄膜的制备方法。它要解决现有氧化硅薄膜存在脆性裂纹而致使阻隔性能和耐用性能差的问题。本发明制备方法：一、将经过超声清洗和电晕处理后的塑料基材放入真空室；二、基材卷绕在滚筒上固定，调节真空系统；三、通入Ar气，调节工作气压，滚筒带动基材旋转；四、开启射频电源，先预溅射SiO2陶瓷靶和环氧树脂靶，然后打开挡板，交替沉积环氧树脂膜层与SiO2陶瓷膜层，完成高阻隔包装薄膜的制备。本发明制备的包装薄膜经往复折叠100次后，透过性能劣化在10%以下，显示了良好的耐用性和阻隔性。主要应用于食品、精密机械零配件、电子零件和医药仪器的包装。

主权项

旋转式射频磁控溅射法制备无裂纹多层高阻隔包装薄膜，其特征在于旋转式射频磁控溅射法制备无裂纹多层高阻隔包装薄膜是通过下列步骤实现：一、用无水酒精对12～200微米厚的塑料基材进行超声清洗10～20min，然后烘干，再对基材进行电晕处理2～6min后放入真空室中；二、将基材卷绕在基材滚筒上固定，启动机械泵抽至热偶规显示为380～420Pa，启动罗茨泵抽至热偶规显示为6.5～6.8Pa，启动分子泵，将本底真空抽至3×10‑4Pa～5×10‑4Pa；三、旋开质量流量计控制Ar气流量为30～120sccm，工作气压调至0.2～0.8Pa，然后开启旋转电机，使滚筒带动基材旋转，滚筒旋转速度为0.1～2.5m/min；四、放下挡板，开启射频电源，将SiO2陶瓷靶射频功率密度调至0.69～3.47W/cm2，将固化后的环氧树脂靶射频功率密度调至0.69～3.47W/cm2，预溅射10～30min，然后打开挡板，伴随基材旋转，交替沉积每层厚度为3～20nm的环氧树脂膜层与SiO2陶瓷膜层，从而完成无裂纹多层高阻隔包装薄膜的制备；其中步骤三所述的Ar气纯度大于99.99%；步骤四所述的固化后的环氧树脂靶是用顺丁烯二酸酐固化双环戊二烯，SiO2陶瓷靶的纯度大于99.9%。