[发明专利]镁合金表面蚀刻电解质溶液及其蚀刻方法

摘要

本发明公开了一种镁合金表面蚀刻方法，包括：对镁合金材料表面打磨、抛光、超声清洗，取适量的蚀刻电解质溶液，在25~35℃温度下，搅拌25~30min；在镁合金表面覆盖掩模；将上述处理过的镁合金材料浸渍于上述电解质溶液中，以镁合金材料作为阳极，Ag作为阴极，调节直流稳压稳流电源的电压为6~10V，温度控制在30℃，搅拌速度控制在30~60r/s，进行蚀刻20~40min；然后超声清洗；将蚀刻后的镁合金材料进行表面氟化处理后，揭去掩膜。本发明蚀刻方法能够很好的控制反应速度，抑制横向腐蚀，保证纵向腐蚀，提高镁合金的抗腐蚀性，而且该加工工艺简单，操作方便，具有广泛的应用前景。

主权项

一种镁合金表面蚀刻电解质溶液，其组分及摩尔浓度为：NaNO2      0.30~0.60mol/L；NaOH       0.10~0.20mol/L；Na2SiO3    0.01~0.03mol/L；NH4F       0.01~0.03mol/L；EDTA       0.01~0.03mol/L。