[发明专利]用于磁共振成像的方法和装置有效
申请号: | 201210383221.2 | 申请日: | 2012-10-11 |
公开(公告)号: | CN103048633A | 公开(公告)日: | 2013-04-17 |
发明(设计)人: | T.费威尔;B.库恩 | 申请(专利权)人: | 西门子公司 |
主分类号: | G01R33/54 | 分类号: | G01R33/54;A61B5/055 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 谢强 |
地址: | 德国*** | 国省代码: | 德国;DE |
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摘要: | 在一种用于磁共振(MR)成像的方法中,在拍摄序列(20)的多个准备模块(21-23,31-33)中准备磁化。在至少一个成像模块(24-26,34-36)中拍摄MR信号。在多个准备模块(21-23,31-33)中产生扰相梯度场,以便影响横向磁化。在至少两个不同的准备模块(21-23,31-33)中施加的扰相梯度场沿着不同的方向空间地改变。这样选择扰相梯度场的扰相梯度矩,使得对于三个正交的空间方向中的至少一个空间方向,沿着该空间方向施加的扰相梯度矩的加权和满足阈值条件。 | ||
搜索关键词: | 用于 磁共振 成像 方法 装置 | ||
【主权项】:
一种用于利用拍摄序列(20)进行磁共振(MR)成像的方法,所述拍摄序列包括多个准备模块(21‑23,31‑33)和至少一个成像模块(24‑26,34‑36),其中,该方法包括:‑在多个准备模块(21‑23,31‑33)中准备磁化,和‑在至少一个成像模块(24‑26,34‑36)中拍摄MR信号,其中,‑在多个准备模块(21‑23,31‑33)中产生扰相梯度场(45,46;51,59),以便影响横向磁化,其中,在一个准备模块(21,31)中产生沿着一个方向(19)空间地改变的扰相梯度场(45,46;51,59),并且在另一个准备模块(22,23,32,33)中产生沿着与该方向(19)不同的方向(17,18)空间地改变的扰相梯度场(45,46;51,59),并且‑这样选择扰相梯度场(45,46;51,59)的扰相梯度矩(92),使得对于三个正交的空间方向(17‑19)中的至少一个空间方向,沿着该空间方向(19)施加的扰相梯度矩(92)的加权和满足阈值条件。
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