[发明专利]光纤初级预制件、光纤最终预制件和光纤及其制造方法有效
| 申请号： | 201210353491.9 | 申请日： | 2012-09-20 |
| 公开（公告）号： | CN103011576A | 公开（公告）日： | 2013-04-03 |
| 发明（设计）人： | I·米莉瑟维克;J·A·哈特苏克;M·J·N·范·斯特劳伦 | 申请（专利权）人： | 德拉克通信科技公司 |
| 主分类号： | C03B37/018 | 分类号： | C03B37/018;C03B37/02 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇 |
| 地址： | 荷兰阿*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明涉及光纤初级预制件、光纤最终预制件和光纤及其制造方法，通过使用等离子体化学内部气相沉积工艺来制造光纤初级预制件，其中：向中空玻璃基管的内部供给掺杂或未掺杂的玻璃形成前体，使等离子体形式的反应区沿着所述中空玻璃基管的长度在中空玻璃基管的位于供给侧附近的换向点和位于排出侧附近的换向点之间往返移动，中空玻璃基管配置在加热炉内，并且在反应区内创建条件以使得在所述中空玻璃基管的内部沉积由至少两个单独的玻璃层构成的一个或多个玻璃层封装体。 | ||
| 搜索关键词： | 光纤 初级 预制件 最终 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种使用等离子体化学内部气相沉积工艺来制造光纤初级预制件的方法，其中，向中空玻璃基管的内部供给掺杂或未掺杂的玻璃形成前体，使等离子体形式的反应区沿着所述中空玻璃基管的长度在中空玻璃基管的位于供给侧附近的换向点和位于排出侧附近的换向点之间往返移动，中空玻璃基管配置在加热炉内，并且在所述反应区内创建条件，以使得在所述中空玻璃基管的内部沉积由至少两个单独的玻璃层构成的一个或多个玻璃层封装体，该方法的特征在于，包括以下步骤：针对至少一个玻璃层的沉积，根据反应区在中空玻璃基管的纵向上的位置来定义沉积条件，并且在沉积所述玻璃层期间，如此定义的多个沉积条件彼此不同。
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